然后刘海就来到了烽火科技公司。

“谢谢老板。”倪南看到刘海先道谢，刘海来的是办公的地方，实验室在另外的地方，当然刘海是从地下停车场上来的。

“算起来是我赚了，毕竟你们都在给我工作。”刘海呵呵一笑。

“老板，龙芯三代芯片测试顺利进行。”

“很不错。”刘海点点头。

“光刻机掩模方向研究怎么样？”刘海问的光刻机掩模技术，是在光刻机发展里程碑上重要的技术这项技术历史上1990年被荷兰的阿斯麦运用。

光刻机掩膜版上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。

在投影式光刻机中，掩膜版作为一个光学元件位于会聚透镜与投影透镜之间，并不和晶圆有直接接触。

掩膜上的图形缩小4~10倍后透射在晶圆表面。这个过程类似于传统照相机的底片功能，通过曝光工艺将图形从掩膜版转移到基底上。

“正在组织人力物力进行对这项技术进行公关，因为其中涉及到的东西比较多。”倪南听到刘海问这技术就开口回答。

“光刻机的折射率问题，我觉得可以通过液体解决，比如水，这也是一个研究方向。”刘海说的光刻机折射率的问题也正是在后面，荷兰阿斯麦战胜小本子的关键技术。

在90年代中期光刻机的巨头并不是阿斯麦，而是尼康与佳能，就因为阿斯麦先一步解决了激光折射率的问题，也就提前了半年时间。

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